化工行業中的超純水主要應用於電池行溶劑用水₪•◕│✘、化學分析₪•◕│✘、化工材料₪•◕│✘、產品清洗₪•◕│✘、物質的分離₪•◕│✘、濃縮₪•◕│✘、提純☁↟·••，廢物回收等場合☁↟·••，對於水質要求相對來說不是太高☁↟·••，純水電導率從0.1uS/cm-20uS/cm就基本上能滿足要求✘◕│。我們公司可根據客戶對水質的具體要求☁↟·••，採用反滲透☁↟·••，EDI等超純水生產工藝的不同組合☁↟·••，生產出即經濟實用☁↟·••，又能滿足客戶要求的化工行業超純水裝置✘◕│。

線路板清洗超純水裝置*工藝₪◕₪：採用反滲透水處理裝置與電去離子（EDI）裝置進行搭配的的方式☁↟·••，這是一種製取超純水的新工藝☁↟·••，也是一種環保☁↟·••，經濟☁↟·••，發展潛力巨大的超純水製備工藝☁↟·••，其基本工藝流程為₪◕₪：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透裝置→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點

電鍍行業純水裝置包括電鍍前電鍍液配製需要的純水處理系統₪•◕│✘、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水迴圈利用廢水*系統✘◕│。通常系統由超濾裝置☁↟·••，反滲透裝置☁↟·••，離子交換裝置☁↟·••，EDI裝置等組合而成☁↟·••，以滿足電鍍行業對水質的要求✘◕│。

光電行業清洗超純水裝置出水水質*符合美國ASTM純水水質標準₪•◕│✘、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm₪•◕│✘、15MΩ.cm₪•◕│✘、10MΩ.cm₪•◕│✘、2MΩ.cm₪•◕│✘、0.5MΩ.cm五級標準）₪•◕│✘、我國電子工業部高純水水質試行標準₪•◕│✘、美國半導體工業用純水指標₪•◕│✘、日本積體電路水質標準₪•◕│✘、國內外大規模積體電路水質標準✘◕│。

二級反滲透加EDI超純水裝置控制系統₪◕₪： 整套系統系統有兩種執行模式₪◕₪：手動與自動模式； 原水箱缺水時☁↟·••，整個系統不能工作； 純水箱滿水時☁↟·••，整個系統停止工作； 反滲透每執行2小時（可自行設定）自動沖洗一次； 純水箱缺水EDI系統不能工作； 超純水箱滿水時☁↟·••，EDI膜堆停止工作； EDI膜堆受EDI濃水流量開關控制☁↟·••，流量達不到要求時☁↟·••，EDI膜堆自動停機； 自來水缺水時可以自動補水✘◕│。